日本MEG对齐单元

深圳纳加霍里科技专业代理销售日本MEG对齐单元X9113-M 产品特点如下：

日本MEG对齐单元X9113-M 是一款高精度光学对齐单元（Alignment Unit），主要用于半导体设备、液晶面板制造、精密测量系统等工业领域，确保光学元件或机械部件的精准定位与校准。

小型缓冲类型主体□30mm浓缩缓冲必要的功能，紧凑节省空间，高速运行，备有带马达型号、外部驱动型号，此外，还可以选择主体安装方式和鳍片形状等。

备有本体安装部形状、指状物形状、驱动方式等多种种类。

小型类型的基本机构原封不动，实体从上侧用M3螺丝能安装的模型，小型A型还备有可实现闭环控制的α STEP马达型号。

在狭小空间也能发挥高精度定位的定位单元和开发的小型对准单元，控制身体宽度的苦心设计，即使在小冲程输送的狭小空间内也能实现精确的工件定位。

小型指状物配置于机身顶部，本体安装，利用本体背面的M2抽头。

小型A型I指状物配置在机身上面，主体安装从主体上面用M3螺丝拧紧，还准备了实现闭环的STEP 。

小型AP型I被配置在实体侧面，实体安装从实体上面用M3螺丝拧紧，还准备了可实现闭环的 STEP马达。

核心特点

1.高精度调整

采用精密机械结构，支持微米级（μm）甚至纳米级（nm）的位置调整，适用于对光路或机械组件的高灵敏度对齐需求。

2.多自由度调节

通常配备XYZ三轴线性平移台，部分型号可能集成旋转（θx/θy/θz）调节功能，满足复杂对齐场景。

3.稳定性与刚性

材料采用高强度铝合金或不锈钢，结构设计优化，确保长时间使用无漂移，抗振动干扰。

4.兼容性

可适配多种光学元件（透镜、反射镜、激光器等）或传感器，接口设计灵活，便于集成到现有系统中。

5.环境适应性

部分型号支持真空或洁净室环境，适用于半导体和FPD（平板显示）制造工艺。

典型应用场景

半导体设备：光刻机、检测设备的镜头校准。

激光加工：激光束路径的精确对准。

光学实验：科研级光学平台的组件调整。

自动化检测：CCD相机、传感器的位置校准。

选型与规格

行程范围：XYZ轴典型行程±5mm~±10mm（可定制）。

分辨率：手动调节可达0.1μm，电动驱动型号精度更高。

负载能力：约1~5kg（具体取决于设计）。

驱动方式：手动微调旋钮、电动马达（可选）。

规格

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