水膜与无油的真空叙事——樫山工业核心产品解析

自1946年创立以来，樫山工业株式会社扎根日本长野县佐久市，以七十余年的真空技术深耕，在工业领域搭建起围绕气体处理的解决方案体系。摒弃刻意的概念渲染，这家企业始终以工况适配为核心，将结构优化与性能平衡融入产品设计，其中LEH/LEM系列水封式真空泵与NeoDry系列干式真空泵，作为贯穿多行业的核心装备，承载着其对真空技术的务实理解，在不同场景中释放稳定效能。

LEH/LEM系列水封式真空泵的设计逻辑，源于对含湿气体处理场景的深度适配。这类设备以圆形壳体与偏心叶轮为核心结构，通过叶轮旋转时离心力形成的同心水膜，构建密封空间完成吸气、压缩与排气的连续作业，这种基于水介质的密封方式，让其在潮湿气体环境中具备天然适配性。整个系列分为两段式与直连式两大品类，形成覆盖不同工况的产品矩阵。

LEH型作为两段式高真空设计的代表，侧重应对对真空度有较高要求的场景，常用的LEH100MS型号可高效处理含水蒸气、水滴的气体，同时能适配引火性、腐蚀性气体的排气需求。其内部机械密封轴封设计大幅减少摩擦部件，支持长期连续运转，运行过程中维持低噪音、低振动状态，排气无脉动现象，日常维护仅需关注封水循环状态，有效降低运维环节的人力与物料成本。针对不同介质特性，该型号提供铜合金、不锈钢、全不锈钢等多种材质选项，耐腐蚀性逐级提升，可匹配化工、制药等行业的复杂介质环境。

LEM型则以电机直连式结构主打紧凑轻量化，安装便捷且占用空间小，更适合中小型工况的气体处理需求。其单级真空设计可实现7.3×10³ Pa的极限压力，内置定流量阀采用适量给水方式，能根据工况自动调节用水量，在保障性能的同时契合绿色生产理念。日本麒麟啤酒生产线曾引入LEM-800型号用于麦芽干燥，将原本8小时的干燥时间缩短至5小时，能耗实现明显下降，印证了其在效率与节能方面的实际价值。

凭借对潮湿环境的适配能力，LEH/LEM系列的应用场景已渗透多个基础工业领域。在化工行业，其可参与反应釜尾气处理、溶剂回收等环节，耐受腐蚀性气体排放；制药生产中，低污染特性能够满足药品干燥、蒸馏工艺的真空需求，避免介质污染影响产品品质；食品加工领域则常用于果蔬脱水、真空冷冻干燥等流程，在保障食品新鲜度的同时延长保存周期。此外，在环保水处理的曝气环节、电子元件清洗后的含湿气体处理中，该系列产品也凭借稳定表现占据重要位置。

如果说LEH/LEM系列是基础工业的真空基石，那么NeoDry系列干式真空泵则精准对接精密制造领域的严苛需求。这类设备以无油无水的运行模式为核心优势，彻摆脱对润滑与密封介质的依赖，有效避免油液或水分污染，成为半导体、液晶显示等高科技行业的关键装备。樫山工业通过对电机结构与气路设计的持续优化，让该系列在紧凑性、能耗控制与噪音抑制方面形成特色。

NeoDry系列涵盖小型轻量与中大型多个细分型号，形成完整的排量覆盖体系。小型款的NeoDry7E、15E、30E，排气速度分别达到110L/min、250L/min、500L/min，到达压力低可达0.3Pa，噪音值控制在56-60dB(A)之间，相比旧系列实现12%-14%的轻量化提升，紧凑结构可直接嵌入设备内部，适合电子元件、精密仪器制造中的局部真空环境控制。中大型款的NeoDry36E、60E、300E，排气速度高可达5000L/min，能适配大排量工况需求，为规模化生产提供支撑。

全系列采用气密结构设计，搭载标准气体平衡机构，部分型号支持N₂导入选项，水蒸气处理量高可达600g/h，能有效应对凝缩性气体排气场景。在能耗控制上，该系列通过优化电机设计，相比旧系列实现20%的能耗降低，其中E系列搭载变频调速功能，平均节能幅度进一步提升，G系列采用陶瓷涂层轴承，将维护间隔延长至15000小时，大幅降低全生命周期使用成本。低噪音特性让其可适配理化分析、医疗检测等噪音敏感场景，实现跨行业通用。

在半导体制造领域，NeoDry系列凭借无粉尘、无气体污染的优势，成为晶圆加工、封装测试环节的常用装备，其颗粒物排放控制达到严苛标准，为芯片良率提供保障。在液晶显示与太阳能电池制造中，高真空度与稳定运行性能可支撑镀膜、刻蚀等工艺的精度要求，三星、LG等面板企业的TFT-LCD/OLED蒸镀工艺中，该系列产品已形成标准化配置。此外，在高校实验室的质谱分析、制药冻干等场景中，小型款NeoDry设备也凭借灵活适配性获得广泛应用。

樫山工业的产品逻辑，始终围绕“工况适配"与“性能平衡"展开。无论是LEH/LEM系列对潮湿、腐蚀性环境的耐受能力，还是NeoDry系列对精密制造的洁净需求响应，都没有追求单一指标的突破，而是通过结构优化、材质升级与功能适配，让设备在实际应用中实现效能、能耗与维护成本的均衡。这种务实的设计理念，使其产品能够跨越基础工业与高科技制造的边界，在不同行业的生产流程中扮演关键角色。

从化工车间的腐蚀性气体处理，到半导体工厂的高洁净度真空环境构建，樫山工业的核心产品以技术沉淀为支撑，以场景需求为导向，用稳定表现诠释着真空设备的工业价值。七十余年的技术积累，没有转化为浮夸的概念宣传，而是融入每一处结构设计与性能调校中，让产品成为工业流程中可靠的组成部分，持续为各行业的生产优化提供支撑。