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半导体纳米制造的良率基石与精度保障的MTL编码器
半导体纳米制造的良率基石与精度保障的MTL编码器
更新时间：2026-01-26
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当半导体制程迈入 3nm 时代，晶圆表面哪怕微米级的瑕疵都可能导致整片报废，而 Microtec Laboratory（MTL）40 余年的精密制造经验，正成为半导体设备的 “精度安全锁"。作为适配 IHI、尼康等行业的日本编码器专家，MTL 以定制化精密方案，破解光刻、检测、搬运等核心环节的精度难题。
- 低释气材料与无油润滑设计： 杜绝污染物排放，适配超高真空（UHV）工况。
- 耐高温： 特殊材料选型，可应对光刻设备 80℃以上的 bake-out 工艺需求。
- 抗电磁干扰： PTFE 绝缘屏蔽线缆，确保信号在电磁干扰密集环境中零失真。
- 高精度定位： 内置编码器可达 1 角秒定位精度，20bit 高分辨率输出。
- 晶圆检测： 在 XY 轴控制中，定位误差稳定在 ±0.8μm 以内，将缺陷漏判率从 0.3% 降至 0.08%。
- 晶圆搬运： 超小型编码器（如 φ21mm 的 MDS-13 系列）集成于机械臂关节电机，实现 ±0.01mm 的升降定位精度，避免晶圆碰撞损伤。
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