破界新生·智启未来｜纳加霍里科技公司新品高压均质机

更新时间：2026-03-11

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今日，纳加霍里科技新推出——日本进口NJHL系列超高压均质机，为CMP研磨液的制备技术带来突破。该设备采用自主研发的微秒级高压破碎技术，可将研磨液颗粒均匀度提升至新高度，为半导体制造向更制程迈进提供关键材料保障。

技术突破：从"微米"到"纳米"的精度飞跃

NJHL超高压均质机采用创新技术研发的双级均质阀技术，在微秒级时间内实现从数百MPa高压到常压的瞬时转换。这一过程产生的空化效应和湍流剪切力，能够将氧化硅、氧化铈等研磨颗粒破碎至10纳米以下，粒径分布变异系数（CV值）降低至15%以内。

传统均质技术难以避免颗粒二次团聚，而我们的双级均质设计，在初级破碎后立即进行温和的二次均质，可有效稳定新生颗粒表面，将二次团聚率降低90%以上。

量产保障：从实验室到产线的无缝放大

针对CMP研磨液从研发到量产的关键难题，NJHL系列创新性地采用了连续稳定同位素泵（C-SIP）技术。该技术确保实验室研发参数能够100%复现到生产线，将工艺放大周期从传统的6-12个月缩短至1-3个月。

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目前，该技术已在国内多家优先的CMP研磨液制造商完成验证。某头部材料企业应用数据显示，采用NJHL均质机后，其氧化硅研磨液的批次稳定性提升40%，大颗粒缺陷率降低60%，产品良率显著提高。

半导体级纯净：满足最严苛的洁净要求

在半导体材料领域，任何微小的金属污染都可能导致晶圆缺陷。NJHL系列均质机的核心部件采用高纯度陶瓷和特殊合金材料，金属离子析出量低于1ppb，满足Class 1洁净室标准。

设备同时标配智能监控系统，可实时监测压力、温度、流量等关键参数，所有数据符合FDA 21 CFR Part 11规范要求，为半导体材料的可追溯性提供完整解决方案。

市场前景：百亿级市场的技术革新

据行业分析机构数据显示，CMP研磨液市场规模将在2026年达到50亿美元，其中制程用研磨液占比超过60%。随着3纳米、2纳米制程的逐步量产，对研磨液性能的要求将呈指数级提升。

NJHL超高压均质机的推出，不仅弥补国内在该领域的技术空白，更重要的是为整个半导体材料产业链提供了关键设备保障。我们已与多家领企业达成战略合作，未来三年预计将覆盖国内80%的CMP研磨液产能。

破界新生·智启未来｜纳加霍里科技公司新品高压均质机

目前，NJHL系列已推出实验室型、中试型和量产型三个版本，可满足从研发到量产的不同阶段需求。设备同时提供定制化服务，可根据客户具体工艺要求进行针对性优化。

随着半导体制造不断向物理极限推进，材料与设备的协同创新已成为产业发展的关键。纳加霍里科技NJHL超高压均质机的问世，标志着中国在半导体关键材料装备领域迈出了重要一步，为半导体产业的持续进步贡献智慧方案。

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